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米マイクロン日本法人代表「広島でHBM生産」、EUVは26年からマイクロン・テクノロジーの広島工場は、生成AI向けのHBM（広帯域メモリー）を生産する重要な拠点となっています。日本政府からの1920億円の支援を受け、次世代DRAMの量産に約5000億円を投資する計画です広島工場では現在、1β世代のDRAMを量産しており、AI市場の成長に伴い、メモリー需要が急増しています。特に、大規模言語モデル（LLM）のパラメーター数の増加により、高度なサーバー技術が求められており、今後はパソコンやスマートフォンなどのエッジ端末や産業機器にもAIが搭載される見込みです広島工場は、先端DRAMの開発と製造を手掛ける拠点として、非常に重要な役割を果たしています　日本国内でEUV（極端紫外線）技術を導入し、次世代DRAMの製造を2026年から開始する計画を発表しました12。この技術は、広島工場での生産に適用される予定で、日本政府からの支援を受けて約5000億円を投資する予定ですEUV技術の導入により、より高度なメモリ製品の製造が可能となり、AIやその他の先端技術の進展に寄与することが期待されています続きをみる
Source: Note 起業ニュース

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