Samsung、3nmプロセスでの半導体製造における良品率向上の為EUVペリクル導入

Samsung Electronicsが、3nmプロセスでの半導体製造における良品率向上を目的とし、極端紫外線（EUV：Extreme Ultra-Violet）ペリクルを導入すると発表しました。
3nmプロセスでの半導体製造でTSMCに先行したSamsung
Samsung Electronicsが導入するのは、光透過率90%以上のEUVペリクルです。
 
EUVペリクルは、露光工程におけるフォ
Source: グノシー経済

リンク元