中国の知的財産権、創造の質向上 発明特許構造改善

中国の知的財産権、創造の質向上　発明特許構造改善
16日、国務院新聞（報道）弁公室が開いた記者会見の会場。（北京＝新華社記者/張玉薇）　【新華社北京1月20日】中国国家知識産権（知的財産権）局戦略規画司の葛樹（かつ・じゅ）司長は16日、国務院新聞（報道）弁公室が開いた記者会見で、中国では知的財産権創造の質が継続的に向上しており、発明特許構造の最適化が進んでいると述べ、特徴として次の3点を挙げた。　
Source: グノシー経済

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