AGC、EUV露光用フォトマスクブランクスの生産能力増強を決定

AGCは1月25日、グループ会社であるAGCエレクトロニクスにおいて、EUV向けフォトマスクブランクス(EUVマスクブランクス)の生産能力を増強することを決定したと発表した。
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フォトマスクブランクスはフォトマスクの材料で、半導体の露光プロセスで用いられている。

今回の決定は、世界的なEUVプロセスの活用の増加に
Source: グノシー経済

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