EUVレジスト：マスコミが語らない「米中」「日韓」貿易紛争の深層（特別寄稿）

1. 本稿の趣旨
第1回、第2回に続き第3回目も好評を得たようなので、今回も引き続き一連の半導体材料の輸出管理の見直しに関する分析記事を書かせていただこうと思う（テンプレ）。
これまではフッ化水素の話を中心に論じたが、今回はEUVレジストの管理強化の持つ意味について考えたい。といっても「EUVレジスト」という言葉は一般の人に聞きなれない言葉だと思うので、まずは「EUV」「レジスト」という言葉がそれぞれ何を意味するのかということから説明したい。やや技術的な記述となるがご了承いただきたい。
2.「EUVレジスト」とは何か？
コンピューターの中核を為すような高性能な半導体集積回路を作るには、シリコン基板の上にnm（ナノメートル）レベルの微細な回路パターン構成する必要がある。この製造にはフォトリソグラフィ（以下「リソグラフィ」）という手法がとられている。リソグラフィの基本的な原理は、カメラで写真を撮ってフィルムをプリントするのと同様なのだが、細かい説明はここでは避けて手順のみを説明すると、
①シリコン基板にレジストを塗布する
②マスクに描かれた回路パターンをシリコン基板に転写する
③感光したレジストを除去して現像する
④現像されたパターンに沿ってシリコン表面に凹凸を作り回路を描く（エッチング）
という具合に進められていく。つまりレジストはリソグラフィ工程において無くてはならない素材である

リンク元